[1]
Ievtushenko, A.I., Lashkarev, G.V., Lazorenko, V.I., Kosyachenko, L.A., Sklyarchuk, V.M. і Sklyarchuk, O.F. 2010. ОСОБЛИВОСТІ ФОТОЧУТЛИВОСТІ СТРУКТУРИ NI/N-ZNO:N/P-SI. Сенсорна електроніка і мікросистемні технології. 7, 4 (Лис 2010), 21–26. DOI:https://doi.org/10.18524/1815-7459.2010.4.116313.