Ievtushenko, A. I., G. V. Lashkarev, V. I. Lazorenko, L. A. Kosyachenko, V. M. Sklyarchuk, і O. F. Sklyarchuk. «ОСОБЛИВОСТІ ФОТОЧУТЛИВОСТІ СТРУКТУРИ NI/N-ZNO:N/P-SI». Сенсорна електроніка і мікросистемні технології 7, no. 4 (Листопад 23, 2010): 21–26. дата звернення Грудень 5, 2025. http://semst.onu.edu.ua/article/view/116313.