1.
Ievtushenko AI, Lashkarev GV, Lazorenko VI, Kosyachenko LA, Sklyarchuk VM, Sklyarchuk OF. ОСОБЛИВОСТІ ФОТОЧУТЛИВОСТІ СТРУКТУРИ NI/N-ZNO:N/P-SI. Сенсор. електроніка і мікросистем. технології [інтернет]. 23, Листопад 2010 [цит. за 05, Грудень 2025];7(4):21-6. доступний у: http://semst.onu.edu.ua/article/view/116313