CЕНСОР ПЕРЕКИСУ ВОДНЮ НА ОСНОВІ МДН-ТРАНЗИСТОРА З АКТИВНИМ ШАРОМ В ОБЛАСТІ ПІДКЛАДКИ
DOI:
https://doi.org/10.18524/1815-7459.2017.4.116007Ключові слова:
МДН-транзистор, сенсор, перекис водню, пористий кремній, Pt наночастинкиАнотація
Проведено дослідження сенсорів H2 О2 на основі МДН-транзисторів з шаром пористого кремнію та каталізатором перекису водню (наночастинками платини) на зворотній стороні підкладки в області затвору. Модифікація тильної сторони сенсора виконувалася шляхом метал-стимульованого хімічного травлення. Проведено аналіз пористої структури, вимірювання розміру наночастинок платини та їх вплив на чутливість сенсора. На основі апроксимації вольт-амперних характеристик при різних концентраціях перекису водню обчислено чутливість сенсора, що складає не менше 0,135 мкА/ppm. Розраховано енергетичну активність реакції каталітичного розпаду H2 О2 та її вплив на результати експерименту.
Посилання
Chen, S., Yuan, R., Chai, Y. et al. Electrochemical sensing of hydrogen peroxide using metal nanoparticles: a review Microchim Acta (2013) 180: 15.
Ren, C., Song, Y., Li, Z. et al. Hydrogen peroxide sensor based on horseradish peroxidase immobilized on a silver nanoparticles/cysteamine/gold electrode Anal Bioanal Chem (2005) 381: 1179.
Wang, Q. & Zheng, J. Electrodeposition of silver nanoparticles on a zinc oxide film: improvement of amperometric sensing sensitivity and stability for hydrogen peroxide determination Microchim Acta (2010) 169: 361.
Wang, L., Zhu, H., Hou, H. et al. A novel hydrogen peroxide sensor based on Ag nanoparticles electrodeposited on chitosan-graphene oxide/ cysteamine-modified gold electrode J Solid State Electrochem (2012) 16: 1693.
Estrela-Lopis V.R., Borodinova T.I., Yurkova I.N., Extracellular biomeneralization and synthesis of nano- and microcrystals of gold and platinum in aqueous solutions of polysaccharides. In the book: “Colloid-chemical bases of nanoscience” / Ed. A.P. Shpaka, Z.R. Ulberg. - K.: Academperiodica, 2005. – 238-297.
Zhipeng Huang, Xuanxiong Zhang, Manfred Reiche, Lifeng Liu, Woo Lee, Tomohiro Shimizu, Stephan Senz, and Ulrich Gösele, Extended arrays of vertically aligned sub-10 nm diameter [100] Si nanowires by metal-assisted chemical etching, Nano Letters – 2008, Vol. 8, No. 9, 3045-3051.
Zhipeng Huang, Nadine Geyer, Peter Werner, Johannes de Boor, Ulrich Gösele, MetalAssisted Chemical Etching of silicon: A Review, Adv. Mater - 2011, 23, 285–308.
##submission.downloads##
Опубліковано
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2017 Сенсорна електроніка і мікросистемні технології
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License.
Авторське право переходить Видавцю.