CЕНСОР ПЕРЕКИСУ ВОДНЮ НА ОСНОВІ МДН-ТРАНЗИСТОРА З АКТИВНИМ ШАРОМ В ОБЛАСТІ ПІДКЛАДКИ

O. Kutova, M. Dusheiko, T. Obukhova, N. Maksimchuk, T. Borodinova, V. Tymofeev

Анотація


Проведено дослідження сенсорів H2 О2 на основі МДН-транзисторів з шаром пористого кремнію та каталізатором перекису водню (наночастинками платини) на зворотній стороні підкладки в області затвору. Модифікація тильної сторони сенсора виконувалася шляхом метал-стимульованого хімічного травлення. Проведено аналіз пористої структури, вимірювання розміру наночастинок платини та їх вплив на чутливість сенсора. На основі апроксимації вольт-амперних характеристик при різних концентраціях перекису водню обчислено чутливість сенсора, що складає не менше 0,135 мкА/ppm. Розраховано енергетичну активність реакції каталітичного розпаду H2 О2 та її вплив на результати експерименту. 


Ключові слова


МДН-транзистор; сенсор; перекис водню; пористий кремній; Pt наночастинки

Повний текст:

PDF (English)

Посилання


Chen, S., Yuan, R., Chai, Y. et al. Electrochemical sensing of hydrogen peroxide using metal nanoparticles: a review Microchim Acta (2013) 180: 15.

Ren, C., Song, Y., Li, Z. et al. Hydrogen peroxide sensor based on horseradish peroxidase immobilized on a silver nanoparticles/cysteamine/gold electrode Anal Bioanal Chem (2005) 381: 1179.

Wang, Q. & Zheng, J. Electrodeposition of silver nanoparticles on a zinc oxide film: improvement of amperometric sensing sensitivity and stability for hydrogen peroxide determination Microchim Acta (2010) 169: 361.

Wang, L., Zhu, H., Hou, H. et al. A novel hydrogen peroxide sensor based on Ag nanoparticles electrodeposited on chitosan-graphene oxide/ cysteamine-modified gold electrode J Solid State Electrochem (2012) 16: 1693.

Estrela-Lopis V.R., Borodinova T.I., Yurkova I.N., Extracellular biomeneralization and synthesis of nano- and microcrystals of gold and platinum in aqueous solutions of polysaccharides. In the book: “Colloid-chemical bases of nanoscience” / Ed. A.P. Shpaka, Z.R. Ulberg. - K.: Academperiodica, 2005. – 238-297.

Zhipeng Huang, Xuanxiong Zhang, Manfred Reiche, Lifeng Liu, Woo Lee, Tomohiro Shimizu, Stephan Senz, and Ulrich Gösele, Extended arrays of vertically aligned sub-10 nm diameter [100] Si nanowires by metal-assisted chemical etching, Nano Letters – 2008, Vol. 8, No. 9, 3045-3051.

Zhipeng Huang, Nadine Geyer, Peter Werner, Johannes de Boor, Ulrich Gösele, MetalAssisted Chemical Etching of silicon: A Review, Adv. Mater - 2011, 23, 285–308.




DOI: https://doi.org/10.18524/1815-7459.2017.4.116007

Copyright (c) 2017 Сенсорна електроніка і мікросистемні технології

ISSN 1815-7459 (Print), 2415-3508 (Online)