УЗАГАЛЬНЕНИЙ КОМПЛЕКСНИЙ ПОКАЗНИК ЯКОСТІ КРЕМНІЄВИХ ФОТОЕЛЕКТРИЧНИХ ПЕРЕТВОРЮВАЧІВ ДЛЯ АПАРАТУРИ СПЕЦІАЛЬНОГО ПРИЗНАЧЕННЯ
DOI:
https://doi.org/10.18524/1815-7459.2009.4.116049Ключові слова:
фотоелектричний перетворювач, технологічний процес, опромінення, текстурування, дефекти, ямки травленняАнотація
У даній статті описано новий спосіб аналізу та керування параметрами ФЕП для апаратури спеціального призначення за допомогою узагальненого комплексного показника якості та надійності. Запропонований параметр Q дозволяє не тільки керувати процесом виготовлення кремнієвих ФЕП, але і проводити аналіз рівня їх якості та оцінювати дефектність готових виробів.
Посилання
Рейви К. Дефекты и примеси в полупроводниковом кремнии: Пер. с англ. — М.: Мир, 1984. — 475 с.
С.В. Ленков, В.А. Мокрицкий, Д.А. Перегудов, Г.Т. Тариелашвили. Физико-технические основы радиационной технологи полупроводников. — Одеса. — 2002. С. 33-67.
Сердюк Г.Б., Усатенко В.Г. Электрофизические методы диагностирования в задачах управления качеством и надежностью. — К.:Знание, — 1989. С. 24-30.
Фаренбрух А., Бьюб Р. Солнечные елементы:теория и эксперемент/ Пер. с анг. под. ред. М.М. Колтуна.-М.: Энергоатомиздат, 1987.-280с.
Лєнков С.В., Лукомський Д.В. Комплексний параметр якості та надійності кремнієвих фотоелектричних перетворювачів // Збірник наукових праць ВІТІ НТУУ “КПІ”. — К. — 2005. — №1. — С. 81-89.
Охрамович М.М. Аналіз результатів опромінення потоком швидких електронів твердотільних
кремніевих ФЕП для ФЕСБ спеціального призначення // Вісник Київського національного університету імені Тараса Шевченка. Військовоспеціальні науки. — 2009. — №22. — С. 19-23.
Перевозчиков В.А. Особенности абразивной и химической обработки полупроводников. — Н. Новгород: Электроника, -1992. — 132 с.
Готра З.Ю., Николаев И.М. Контроль качества и надежность микросхем. — М.: Радио и связь, — 1989. — 168 с.
##submission.downloads##
Опубліковано
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2009 Сенсорна електроніка і мікросистемні технології
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License.
Авторське право переходить Видавцю.