ВПЛИВ ТЕХНОЛОГІЧНИХ РЕЖИМІВ НА МОРФОЛОГІЮ ПОВЕРХНІ ПЛІВОК СКЛАДУ SіOx(SnOy)
DOI:
https://doi.org/10.18524/1815-7459.2006.2.117610Ключові слова:
золь-гель метод, тонка плівка, морфологія поверхні, теорія самоорганізаціїАнотація
Проведено аналіз морфології поверхні плівок складу SіOx(SnOy). Показано вплив параметрів дозрівання вихідних плівкоутворюючих розчинів на мікроструктуру та морфологію поверхні. Вивчено процеси формування структури плівок з позиції теорії самоорганізації.
Посилання
Park S.-S., Mackenzie J.D. Thickness and microstructure effects on alcohol sensing of tin oxide thin films// Thin Solid Films. 1996. V.274. P.154-159.
Meshkov L.L., Nesterenko S.N. Synthesis of nanocrystallite titanium dioxide for gas sensors.// Sensor. 2002. №1. P.49-61.
Suycovskaya N.V. Chemical methods of transparent thin films formation. L.: Chemistry.1979. -200 p.
Tuturski I.A., Chilkova I. A., Soloviova T. S. Sol-gel method and polymercomposites. M: CSRIEneftechim. 1996. 75 p.
Vikhrov S.P., Bodyagin N.V., Larina T.G., Mursalov S.M. Growth processes of noncrystalline semiconductor from positions of the self-organizing theory//Semiconductors. 2005. V.39. № 8. P. 953-959.
##submission.downloads##
Опубліковано
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2006 Сенсорна електроніка і мікросистемні технології
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License.
Авторське право переходить Видавцю.