ПЕРЕБУДОВА ДЕФЕКТІВ В ПОВЕРХНЕВО-БАР’ЄРНИХ СТРУКТУРАХ Bi-Si-Al СТИМУЛЬОВАНА ДІЄЮ РАДІАЦІЇ
DOI:
https://doi.org/10.18524/1815-7459.2010.4.116316Ключові слова:
рентгенівське опромінення, поверхнево-бар’єрна структура, ВАХ, ВФХ, дефекти, питомий опірАнотація
В даній роботі було сформовано поверхнево-бар’єрні структури на базі кристалів кремнію з різними питомими опорами (ρ1 = 24 Ом∙см, ρ2 =10 Ом∙см) та досліджено зміну їх електрофізичних характеристик під дією X-променів. Показано, що в залежності від дефектної структури кремнієвої підкладки, дія радіації приводить до генерації нових дефектів або зміни зарядового стану існуючих і як наслідок — змінюється механізм струмоперенесення в опромінених структурах.
Посилання
Борковская О. Ю., Дмитрук П. Л., Литовченко В. Г., Эффект радиационного упорядочения
в гетеропереходах (n-Si)-(p-GaP)//ФТП. — 1984. — Т.18,№10. — С.1808–1810.
Махкамов Ш., Турсунов Н. А., Ашуров М., Саидов Р. П., Мартынченко С. В., Об особенностях
образования радиационных дефектов в кремниевых структурах// ЖТФ. — 1999. — Т.69, №1. — С. 121–123.
Марченко И. Г., Жданович Н. Е., Влияние электронного облучения, ослабленного алюминиевыми экранами, на электрическии параметры кремниевых p-n-структур// Письма в ЖТФ — 2010. — Т.36, №10. — С.45–51.
Калинина Е. В., Коссов В. Г., Яфаев Р. Р., Стрельчук А. М., Виолина Г. Н., Высокотемпературный радиационно стойкий выпрямитель на основе p+-n-переходов в 4H-SiC, ионно-легированном алюминием//ФТП — 2010. — Т.44, №6. — С.807–815.
Павлик Б. В., Грипа А. С., Лис Р. М., Слободян Д. П., Дідик Р. І., Шикоряк Й. А., Особливості електрофізичних характеристик поверхнево-бар’єрних структур на базі кристалів p-Si// ФХТТ — 2009. — Т.10, №4. — С. 935–938.
Пека Г. П., Стріха В. І., Поверхневі та контактні явища в напівпровідниках. — К.:Либідь, 1992. — 240 с.
##submission.downloads##
Опубліковано
Номер
Розділ
Ліцензія
Авторське право (c) 2010 Сенсорна електроніка і мікросистемні технології
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License.
Авторське право переходить Видавцю.