ПРЕЦИЗІЙНИЙ ІНТЕРФЕРОМЕТРИЧНИЙ АНАЛІЗ ТОВЩИНИ СУБМІКРОННИХ ПОЛИТИХ ПОЛІМЕРНИХ ПЛІВОК

Автор(и)

  • А. Ю. Мєшалкін Інститут прикладної фізики Академії наук Молдови, Республіка Молдова
  • В. Г. Абашкін Інститут прикладної фізики Академії наук Молдови, Республіка Молдова
  • А. М. Прісакар Інститут прикладної фізики Академії наук Молдови, Республіка Молдова
  • Г. М. Трідух Інститут прикладної фізики Академії наук Молдови, Республіка Молдова
  • И. С. Андрієш Державний Університет Молдови, Республіка Молдова
  • Л. П. Бєц Інститут хімії Академії наук Молдови, Республіка Молдова
  • Е. А. Акімова Інститут прикладної фізики Академії наук Молдови, Республіка Молдова

DOI:

https://doi.org/10.18524/1815-7459.2012.3.114659

Ключові слова:

покриття, отримане методом центрифугування, мікроінтерферометр МИИ-4, система виміру товщин, цифрова обробка інтерферограм, субмікронні тонкі плівки

Анотація

У статті розглядається інтерферометричне вимірювання товщини субмікронних полімерних плівок на основі полиепоксипропілкарбазола, отриманих методом поливу на скляну підкладку, яка обертається в центрифузі. Для прецизійного виміру субмікронних товщин запропонована система, що включає мікроінтерферометр МИИ-4 із установленою веб-камерою і з обробкою інтерферрограм за допомогою розробленого програмного забезпечення. Для одержання тонких полімерних плівок різної товщини (від 160 нм до 960 нм) використали різні концентрації розчину полімеру і швидкості обертання підкладки. Показано, що існує лінійна залежність отриманої товщини плівки від концентрації розчину полімеру і незначний вплив швидкості обертання підкладки на товщину плівки.

Посилання

Polymers for Electronic and Photonic Applications; Wong, C. P., Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 1993.

P. Garrou, In Thin Film Technology Handbook; Elshabini-Riad, A., Barlow, F., Eds.; McGraw-Hill: New York, 1997; Chapter 9.

M. V. Jacob, C.D. Easton, G.S. Woods, C. C. Berndt. Fabrication of a novel organic polymer thin film. Thin Solid Films, 516(12), 2008, pp. 3884-3887.

M. Srinivasarao, D. Collings, A. Philips, S. Pate. «Three-dimensionally ordered array of air bubbles in a polymer film», Science, 292, 2001, 79.

M. Ponting, T. M. Burt, LaShanda T. J. Korley, J. Andrews, A. Hiltner, E. Baer. «Gradient multilayer films by forced assembly coex-trusion», Industrial & Engineering Chemistry Research, 49 (23), 2010, pp. 12111–12118.

D. B. Hall, P. Underhill, J. M. Torkelson. «Spin coating of thin and ultrathin polymer films», Polymer Engineering & Science, 38(12), 1998, pp. 2039–2045.

T. Komikado, A. Inoue, K. Masuda, T. Ando, S. Umegaki. Multi-layered mirrors fabricated by spin-coating organic polymers, Thin Solid Films, 515(7-8), 2007, pp. 3887-3892.

M. Kimura, K. Okahara, T. Miyamoto. Tunable multilayer-film distributed Bragg reflector filter, J. Appl. Phys. 50, 1979, pp. 1222-1225.

A. L. Alvarez, J. Tito, M. B. Vaello, P. Velasquez, R. Mallavia, M.M. Sanchez-Lopez, S. Fernandez de Avila. Polymeric multilayers for integration into photonic devices, Thin Solid Films, 433, 2003, pp. 277-280.

K. J. Lee, T. D.Kang, H. S.Lee, H. Lee, M. J. Cho, S. H. Lee, D. H. Choi. Ellipso-metric study of polymer thin films: Nonlinear optical guest-host system, J. Appl. Phys., 97(8), 2005, pp.083543-1- 083543-5.

A. M. Nasr, H. I. Abd El-Kader, M. Farhat. Characterization of photoactive polymer thin films using transmission spectrum. Thin Solid Films, 515(4), 2006, pp. 1758-1762.

V. Poroshin, D. Bogomolov, A.Kostyuk. PC based measurement system for interferometric analysis of etalon roughness. Advanced Engineering, 4(1), 2010, pp. 65-68.

L. P. Howard, S. T. Smith. Long range constant force profiling for measurement of engineering surfaces, Rev. Sci. Instrum., 63(10), 1992, pp. 4289-4295.

K. Westra, D. Thomson. «The microstructure of thin films observed using AFM», Thin Solid Films, 257(1), 1995, pp. 15–21.

A. Andries, V. Abashkin, E. Achimova, A. Meshalkin, A. Prisacar, S. Sergheev, S. Robu, L.Vlad. Application of carbazole-containing polymer materials as recording media. Physica Status Solidi (a), 208(8), 2011, pp. 1837–1840.

V. Bivol, S. Robu, A. Prisacari, A. Meshalkin, L. Vlad, and M. Karaman. Study of sensito-metric and holographic properties of photo-resist media based on carbazole-containing polymers sensitized with triiodomethane and pyran photochromic materials. High Energy Chemistry, 40(3), 2006, pp. 178–181.

##submission.downloads##

Опубліковано

2012-07-10

Номер

Том 9 № 3 (2012)

Розділ

Наносенсори (фізика, матеріали, технологія)

Ліцензія

Авторське право (c) 2012 Сенсорна електроніка і мікросистемні технології

Creative Commons License

Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License.

Авторське право переходить Видавцю.